Influence du champ magnétique sur une photopile bifaciale au silicium sous éclairement monochromatique par la face arriére en régime statique : détermination de l'épaisseur optimum de la base / Landing Diatta / Ziguinchor : Université Assane Seck de Ziguinchor (2020)  

Public ISBD Titre : Influence du champ magnétique sur une photopile bifaciale au silicium sous éclairement monochromatique par la face arriére en régime statique : détermination de l'épaisseur optimum de la base Type de document : texte imprimé Auteurs : Landing Diatta, Auteur ; Thiame Moustapha, Directeur de la recherche Editeur : Ziguinchor : Université Assane Seck de Ziguinchor, 2020 Importance : 39 p. Présentation : ill.en.coul Format : 30 cm Accompagnement : CD Langues : Français (fre) Mots-clés : champ magnétique  photopile bifaciale  silicium  monochromatique  régime statique  épaisseur optimum Index. décimale : ML20P6 En ligne : https://rivieresdusud.uasz.sn/handle/123456789/892 Influence du champ magnétique sur une photopile bifaciale au silicium sous éclairement monochromatique par la face arriére en régime statique : détermination de l'épaisseur optimum de la base [texte imprimé] / Landing Diatta, Auteur ; Thiame Moustapha, Directeur de la recherche . - Ziguinchor : Université Assane Seck de Ziguinchor, 2020 . - 39 p. : ill.en.coul ; 30 cm + CD. Langues : Français (fre) Mots-clés : champ magnétique  photopile bifaciale  silicium  monochromatique  régime statique  épaisseur optimum Index. décimale : ML20P6 En ligne : https://rivieresdusud.uasz.sn/handle/123456789/892

Exemplaires (1)

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
0079227053	MP20/6 ex.1	Mémoires	Bibliothèque Centrale	Thèse, Mémoire	Exclu du prêt

---

1 (1 - 1 / 1) Par page : 25 50 100 200