Influence du champ magnétique sur une photopile bifaciale au silicium sous éclairement monochromatique par la face arriére en régime statique : détermination de l'épaisseur optimum de la base [texte imprimé] / Landing Diatta, Auteur ; Thiame Moustapha, Directeur de la recherche . - Ziguinchor : Université Assane Seck de Ziguinchor, 2020 . - 39 p. : ill.en.coul ; 30 cm + CD.
Langues : Français (fre)

Mots-clés :	champ magnétique  photopile bifaciale  silicium  monochromatique  régime statique  épaisseur optimum
Index. décimale :	ML20P6
En ligne :	https://rivieresdusud.uasz.sn/handle/123456789/892